一、设备概况
晶体类型:多晶硅
掺杂物:为满足一定的电阻率要求,加入硼与硅材料混合后实现目标电阻率。
二、技术参数
电学特性
电阻率:0.8Ω.cm~3.0Ω.cm(平均1.5Ω.cm)
少数载流子寿命:>2 µs
导电类型:P型
化学特性
碳含量:<2×1018 cm-3
氧含量:<4×1017 cm-3
尺寸
硅片尺寸:156 mm×156 mm±0.5 mm
125 mm×125 mm±0.5 mm
硅片厚度:200 µm±30 µm
偏差:≤50 µm
弓形:≤60 µm
线痕:≤20 µm
边缘缺陷:无
其他
硅片表面:切面完整清洁。
污染物:无污垢,油污、皂液、粘合剂的残留物、指纹等